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德尔集团产品

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序号产品类别产品名称英文名称化学式级别纯度用途
1含氟特气六氟化硫sulfur hexafluoridesf6高纯级 hp99.997%(4n7)灭弧绝缘气体,特高压输变电电力装备用
2含氟特气六氟化硫sulfur hexafluoridesf6电子级 el99.9995%(5n5)电子气体,主要应用于集成电路、面板、led等的清洗、蚀刻工艺制程过程
3含氟特气四氟化碳carbon tetrafluoridecf4电子级 el99.9995%(5n5)电子气体,主要应用于集成电路、面板、led等的清洗、蚀刻工艺制程过程;也大量应用于光纤棒制作工艺过程
4含氟特气六氟乙烷hexafluoroethanec2f6电子级 el99.999%(5n)电子气体,主要应用于集成电路、面板、led等的清洗、蚀刻工艺制程过程
5含氟特气三氟甲烷trifluoromethanechf3电子级 el99.9995%(5n5)电子气体,主要应用于集成电路、面板、led等的清洗、蚀刻工艺制程过程
6含氟特气八氟环丁烷octafluorocyclobutanec4f8电子级 el99.999%(5n)电子气体,主要应用于集成电路、面板、led等的清洗、蚀刻工艺制程过程
7含氟特气氟氮混合气fluorine nitrogen mixturef2/n2电子级 elf2: 99.95%(3n5)
n2:99.999%(5n)
电子气体,主要应用于集成电路、面板、led等的清洗、蚀刻工艺制程过程
8含氟特气八氟丙烷perfluoropropanec3f8电子级 el99.999%(5n)电子气体,主要应用于集成电路、面板、led等的清洗、蚀刻工艺制程过程
9含氟特气二氟甲烷difluoromethanech2f2电子级 el99.9995%(5n5)电子气体,主要应用于集成电路、面板、led等的清洗、蚀刻工艺制程过程
10含氟特气一氟甲烷fluoromethanech3f电子级 el99.9995%(5n5)电子气体,主要应用于集成电路、面板、led等的清洗、蚀刻工艺制程过程
11含氟特气三氟化氯chlorine trifluorideclf3电子级 el99.995%(4n5)电子气体,主要应用于集成电路、面板、led等的清洗、蚀刻工艺制程过程
12含氟特气三氟化磷phosphorus trifluoridepf3电子级 el99.99%(4n)电子气体,蚀刻工艺使用,将用于高深宽比的高层新一代产品刻蚀
13电子特气硅烷silanesih4电子级 el99.9999%(6n)广泛应用于微电子、光电子、太能能电池制造、平板显示器、集成电路、锂电池制造、碳硅负极等领域
14电子特气氧化亚氮nitrous oxygenn2o电子级 el99.9995%(5n5)用于半导体工业sio2薄膜沉积等工艺,光伏工业金属背光气氧化、氮掺杂氧化、调控材料表面和界面结构等,也可用于真空捡漏、溶剂及烟雾杀虫剂等领域
15电子特气液氧ultra-pure oxygeno2电子级 el99.9999%(6n)用于半导体工业等离子蚀刻等工艺,光伏工业化学气相沉积、硅片的清洗时刻和电池片钝化等,特种冶炼除杂,医学治疗、电子工业等离子刻蚀,航空航天等领域
16稀有气体高纯氙high purity xenonxe电子级 el99.9995%(5n5)电子气体,主要应用于集成电路、面板、led等的清洗、蚀刻工艺制程过程
17稀有气体高纯氪high purity kryptonkr电子级 el99.999%(5n)电子气体,主要应用于集成电路、面板、led等的清洗、蚀刻工艺制程过程
18稀有气体高纯氖high purity neonne电子级 el99.999%(5n)电子气体,主要应用于集成电路、面板、led等的清洗、蚀刻工艺制程过程
19稀有气体高纯氦high purity heliumhe电子级 el99.999%(5n)电子气体,主要应用于集成电路、面板、led等的清洗、蚀刻工艺制程过程
20基础化学品无水氟化氢hydrogen fluorideahf工业级 in99.98%(3n)用于制取氟元素、氟盐、氟卤烷也可用作氟化剂。制备电子级氢氟酸。广泛用于半导体制程、光伏行业、制冷剂、新能源、橡胶涂料、金属表面处理等领域
21基础化学品氢氟酸hydrofluoric acidhf工业级 in-广泛用于玻璃工业、半导体制程、光伏行业、制冷剂、新能源、橡胶涂料、金属表面处理等领域
22新能源材料六氟磷酸锂lithium hexafluorophosphatelipf6电池级(晶体)99.95%(3n5)锂电池电解液主要锂盐
23新能源材料四氟硼酸锂lithium tetrafluoroboratelibf4电池级(晶体)99.50%锂电池电解液功能性新型添加剂
24新能源材料双草酸硼酸锂lithium bisoxalate boratelibob 电池级(晶体)99.50%锂电池电解液功能性新型添加剂
25新能源材料二氟磷酸锂lithium difluorophosphatelipo2f2电池级(晶体)99.9%(3n)锂电池电解液功能性新型添加剂
26新能源材料二氟草酸硼酸锂lithium borate difluoroxalatelidfob 电池级(晶体)99.9%(3n)锂电池电解液功能性新型添加剂
27新能源材料二氟双草酸磷酸锂lithium difluorodioxalate phosphatec4f2lio8p 电池级(emc液态)20±2%(浓度)锂电池电解液功能性新型添加剂
28湿电子化学品氢氟酸hydrofluoric acidhf电子级 upsss、upss、ups、el、in<10 ppt电子级湿化学品,主要应用于集成电路、面板、led等的清洗、蚀刻工艺制程过程
29超高纯气体氟化氢hydrogen fluorideahf电子级 upsss99.999%(5n)电子气体,蚀刻工艺使用,将用于高深宽比的高层新一代产品刻蚀;
30湿电子化学品硫酸sulphuric acidh2so4电子级 upsss、upss、ups、el、in<10 ppt电子级湿化学品,主要应用于集成电路、面板、led等的清洗、蚀刻工艺制程过程
31湿电子化学品氨水ammonianh3.h2o电子级 upsss、upss、ups、el、in<10 ppt电子级湿化学品,主要应用于集成电路、面板、led等的清洗、蚀刻工艺制程过程
32湿电子化学品氟化铵ammonium fluoridenh4f电子级 upss、ups、el、in
电子级湿化学品,主要应用于集成电路、面板、led等的清洗、蚀刻工艺制程过程
33湿电子化学品双氧水hydrogen peroxide h2o2电子级 upsss、upss、ups、el、in<10 ppt电子级湿化学品,主要应用于集成电路、面板、led等的清洗、蚀刻工艺制程过程
34湿电子化学品盐酸hydrochloric acidhcl电子级 upsss、upss、ups、el、in<10 ppt电子级湿化学品,主要应用于集成电路、面板、led等的清洗、蚀刻工艺制程过程
35湿电子化学品硝酸acetic acidhno3电子级 upsss、upss、ups、el、in<10 ppt电子级湿化学品,主要应用于集成电路、面板、led等的清洗、蚀刻工艺制程过程
36tft化学品光阻剥离液strippermixture电子级 el
主要应用于面板、led等的清洗、蚀刻工艺制程过程
37tft化学品光阻洗净液ebr mixture电子级 el
主要应用于面板、led等的清洗、蚀刻工艺制程过程
38tft化学品铝蚀刻液al etchant mixture电子级 el
主要应用于面板、led等的清洗、蚀刻工艺制程过程
39tft化学品铜蚀刻液cu etchantmixture电子级 el
主要应用于面板、led等的清洗、蚀刻工艺制程过程
40tft化学品boe蚀刻液boe etachantmixture电子级 upss、ups、 el<100 ppt主要应用于面板、led等的清洗、蚀刻工艺制程过程
41基础化学品98%硫酸sulphuric acidh2so4工业级in

42基础化学品104.5%发烟硫酸sulphuric acidh2so4工业级in

43基础化学品精制硫酸sulphuric acidh2so4工业级in

44基础化学品三氧化硫sulfur trioxideso3工业级in


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